渡邊 賢司(わたなべ けんじ、1962年 - )は、 日本の材料工学者。国立研究開発法人物質・材料研究機構主席研究員[1]。
山梨県富士吉田市出身[2]。1985年静岡大学理学部卒業[3][4]。1990年北海道大学大学院理学研究科博士課程単位取得退学[3][4]。同年理学博士[5]、沖電気工業入社[4][3]。1994年から旧・科学技術庁無機材質研究所(NIRIM)(現物質・材料研究機構)に所属[4][3]。専門は半導体物理工学で[3]、谷口尚と共同で、六方晶窒化ホウ素の高純度化技術の開発に取り組む[6]。
2017年文部科学大臣表彰科学技術賞(研究部門)。2022年クラリベイト・アナリティクス引用栄誉賞受賞。2023年ジェームス・C・マックグラディ新材料賞受賞。日本物理学会、応用物理学会会員[3]。
脚注
- ^ 渡邊(A01)が2022年クラリベイト引用栄誉賞を受賞しました物質・材料研究機構
- ^ 世界的研究者の少年時代は山梨日日新聞2022年12月21日
- ^ a b c d e f Kenji Watanabe National Institute for Materials Science
- ^ a b c d グラフェンデバイス用六方晶窒化ホウ素単結晶NIMS NOW 2014 January-February
- ^ Resonant phenomena of hyper-Raman scattering in TiO[2 crystal]
- ^ 2022年の「クラリベイト引用栄誉賞」受賞者を発表Clarivate
外部リンク
- 渡邊 賢司 (WATANABE, Kenji)